NO·3 基本面重點(diǎn)

公司是國(guó)內(nèi)技術(shù)領(lǐng)先的微電子化學(xué)品龍頭，產(chǎn)品包括超凈高純?cè)噭?、光刻膠,、 功能性材料、鋰電池粘結(jié)劑等,。

在光刻膠領(lǐng)域,，公司規(guī)模生產(chǎn)光刻膠近30年，光刻膠規(guī)模國(guó)內(nèi)第一,，正啟動(dòng)高端光刻膠研發(fā)工作,；超凈高純?cè)噭┓矫妫臼菄?guó)內(nèi)唯一同時(shí)攻克雙氧水,、氨水和硫酸G5等級(jí)的企業(yè),；在鋰電池材料領(lǐng)域,，公司CMCLi粘結(jié)劑生產(chǎn)線順利落成并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

公司承擔(dān)并完成了國(guó)家重大科技項(xiàng)目02專項(xiàng)“i線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目,，擁有達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平的光刻膠生產(chǎn)線,，產(chǎn)品已經(jīng)達(dá)到國(guó)際中高級(jí)水準(zhǔn)，高端KrF光刻膠完成中試,，未來幾年有望實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)導(dǎo)入,；ArF高端光刻膠研發(fā)工作已啟動(dòng)，并于2020年下半年購(gòu)買ASML1900Gi型光刻機(jī)設(shè)備,，能夠?qū)崿F(xiàn)90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻膠可以滿足國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵材料市場(chǎng)需求。

公司在超凈高純?cè)噭┊a(chǎn)品領(lǐng)域國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額約6%左右,，在國(guó)內(nèi)供應(yīng)商中處于領(lǐng)先地位,，已投產(chǎn)主導(dǎo)產(chǎn)品也獲得中芯國(guó)際、華虹宏力,、長(zhǎng)江存儲(chǔ),、士蘭微等國(guó)內(nèi)知名半導(dǎo)體客戶的采購(gòu)。

公司的鋰電池粘結(jié)劑國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有率高達(dá)40%以上,，超凈高純雙氧水打破國(guó)外壟斷,。

5月12日，晶瑞股份發(fā)布關(guān)于子公司年產(chǎn)9萬噸超大規(guī)模集成電路用半導(dǎo)體級(jí)高純硫酸技改項(xiàng)目的進(jìn)展公告,。經(jīng)近期試生產(chǎn)調(diào)試,，公司半導(dǎo)體級(jí)高純硫酸產(chǎn)品金屬雜質(zhì)含量低于10ppt，達(dá)到G5級(jí)水平,，品質(zhì)已達(dá)全球同行業(yè)第一梯隊(duì)水平,，該項(xiàng)目的建成意味著中國(guó)擁有了國(guó)際水平國(guó)內(nèi)規(guī)模最大的半導(dǎo)體級(jí)電子硫酸基地，解決了集成電路用量最大的三種高純?cè)噭┎牧系膰?guó)產(chǎn)替代,。公司將成為國(guó)際上極少數(shù)能同時(shí)供應(yīng)G5級(jí)高純硫酸,、G5級(jí)高純雙氧水、G5級(jí)高純氨水的材料企業(yè)之一,。