摘要: 基于電致發(fā)光(Electroluminescence,EL)的理論,,本文介紹了利用近紅外檢測(cè)的方法,檢測(cè)出了晶體硅太陽電池和組件內(nèi)部常見的隱性缺陷,。這些缺陷包括:材料缺陷,、高溫?cái)U(kuò)散缺陷、金屬化缺陷,、高溫?zé)Y(jié)缺陷,、工藝誘生污染以及生產(chǎn)過程中的裂紋等,并簡(jiǎn)要分析了造成這些缺陷的原因,,通過EL測(cè)試可以發(fā)現(xiàn)以往常規(guī)手段難以發(fā)現(xiàn)的品質(zhì)缺陷,,對(duì)電池品質(zhì)提升大有裨益。 隨著光伏行業(yè)的迅猛發(fā)展,,光伏產(chǎn)業(yè)已經(jīng)度過了野蠻生長(zhǎng)階段,,光伏產(chǎn)品的質(zhì)量要求也在不斷提高,光伏組件質(zhì)量控制環(huán)節(jié)中測(cè)試手段的不斷增強(qiáng),,原來的成品外觀檢驗(yàn)和電性能基礎(chǔ)測(cè)試已無法滿足行業(yè)的對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的需求,。目前EL測(cè)試設(shè)備已經(jīng)被大部分光伏制造企業(yè)應(yīng)用于晶體硅太陽電池及組件生產(chǎn)線,用于成品檢驗(yàn)或在線產(chǎn)品質(zhì)量控制,,EL是英文electroluminescence的簡(jiǎn)寫,,中文叫做電致發(fā)光或場(chǎng)致發(fā)光。 在晶硅電池內(nèi)部,,只有少子的擴(kuò)散長(zhǎng)度大于勢(shì)壘寬度,,電子和空穴才能通過勢(shì)壘區(qū)時(shí)而不會(huì)因復(fù)合而消失。正向偏置電壓下,,p-n結(jié)勢(shì)壘區(qū)和擴(kuò)散區(qū)注入了少數(shù)載流子,,這些非平衡少數(shù)載流子不斷與多數(shù)載流子復(fù)合而發(fā)光,這就是太陽電池電致發(fā)光的基本原理[1](見圖1[2]),。ELTester測(cè)試的原理:在暗室中,,對(duì)晶硅電池外加正向偏置電壓,其目的是向晶硅電池注入大量非平衡載流子,,并依靠從擴(kuò)散區(qū)注入的非平衡載流子不斷地復(fù)合,,產(chǎn)生光子。再利用噪音小,,且在900-1100nm光譜范圍內(nèi)具有較高靈敏度的CCD相機(jī)捕獲到部分光子,,然后經(jīng)過計(jì)算機(jī)進(jìn)行處理后,以圖像的形式顯示出來,。[3](見圖2),。 EL測(cè)試圖像的明暗度與電池片的少子擴(kuò)散長(zhǎng)度和電流密度成正比(見圖3[4]),當(dāng)晶硅太陽電池內(nèi)部存在缺陷時(shí),,其少子壽命分布會(huì)出現(xiàn)明顯差異,,從而導(dǎo)致圖像顯示存在明暗差異,。通過對(duì)EL測(cè)試圖像分析可以及時(shí)清晰的發(fā)現(xiàn)晶硅電池及組件內(nèi)部存在的隱性缺陷,這些缺陷包括硅材料缺陷(位錯(cuò),、層錯(cuò),、參雜異常)、擴(kuò)散缺陷(方阻不均勻),、印刷缺陷(斷柵,、虛印),、燒結(jié)缺陷(履帶?。⒐に囄廴疽约敖M件封裝過程中的隱形裂紋等,。 2.1破片 2.3斷柵 2.4燒結(jié)缺陷 2.5黑芯,、黑斑 2.6漏電,、擊穿 EL(Electroluminescence)的檢測(cè)方法,是利用了電致發(fā)光原理對(duì)晶硅太陽電池及組件施加正向偏壓產(chǎn)生光子,,并通過CCD相機(jī)捕獲近紅外光子,,然后經(jīng)過計(jì)算機(jī)處理形成可視圖像來分析晶硅電池及組件內(nèi)的缺陷。通過EL圖像分析可準(zhǔn)確判別晶硅太陽電池中可能存在的隱裂、斷柵,、電阻不勻,、等缺陷,而這些缺陷均無法通過肉眼發(fā)現(xiàn),,因此通過EL測(cè)試是一種有效的檢測(cè)晶硅太陽電池,、組件的隱形缺陷,控制,、分析質(zhì)量的方法,。 參考文獻(xiàn) [1]劉恩科,朱秉生,羅晉生等.半導(dǎo)體物理學(xué)[M].西安:西安交通大學(xué)出版社,1998:286. [2]Y.Takahashi,Y.Kaji,A.Ogane,Y.Uraoka and T.Fuyuki,”-Luminoscopy- Novel Tool for the Diagnosis of Crystalline Silicon solar cellsand Modules Utilizing Electroluminescence”, IEEE, 2006,pp.924-927. [3]P.Würfel,T.Trupke,and T.Puzzer.Diffusion lengths of siliconsolar cells from luminescence images[J].J.Appl. Phys,2007,101,123110[3]C.P.ChenAnalytical Determination of Critical Crack Size in SolarCellsJPL Publication 88-19[4] David Hinken,Klaus Ramspeck,Karsten B. [4]Takashi Fuyuki, Yasue Kaji,Akiyoshi Ogane,and Yu Takahashi,”ANALTICFINDINGS IN THE PHOTOGRAPHICCHARACTERIZATION OFCRYSTALLINESILICON SOLAR CELLS USINGELECTROLUMINESCENCE”, IEEE, 2006,pp.905-907. [5]C.P.Chen,Analytical Determination of Critical Crack Size inSolar CellsJPL Publication 88-19[4]. [6]David Hinken,Klaus Ramspeck,Karsten Bothe.Series resistance imaging ofsolar cells by voltage dependent electroluminescence[J].J.Appl.Phys,2007,91,182104. 中電投西安太陽能西寧分公司 高艷飛 申海超 來源:電氣世界 |
|