審校:尹訓濤 內(nèi)容概述 一、中毒和代謝性腦病影像概況 1.影像特征:雙側(cè)對稱病灶,、彌散受限,,無或輕度占位效應,,無強化 2.易感性部位:皮質(zhì)、深部核團,、丘腦,、腦室周圍白質(zhì)和胼胝體 3.非特異性,臨床表現(xiàn)尤為關鍵 二,、急性中毒性腦白質(zhì)?。╝cute toxic leukoencephalopathy, ATL):雙側(cè)對稱性受累區(qū)DWI彌散受限(腦室周圍白質(zhì)異常,基底核正常)提示急性彌散性腦白質(zhì)損傷,。隨后病灶消失與髓鞘內(nèi)水腫(可逆性)有關 三,、Wernicke 腦病:常見部位包括第三腦室周圍(85% 病例為內(nèi)側(cè)丘腦),、頂蓋,、中腦導水管周圍灰質(zhì)和殼核 四、甲硝唑中毒性腦?。篗R 圖像顯示小腦雙側(cè)對稱病變,,特別是齒狀核 五、滲透性脫髓鞘綜合癥(osmotic demyelination syndrome, ODS):影響腦橋外區(qū)域,,包括皮層 常見病因
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