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【OLED】發(fā)光原理⑤載流子的注入與傳輸

 mjhyxy 2021-06-10
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OLED發(fā)光過程分為 4 個(gè)步驟,,包括載流子的注入、載流子的傳輸,、激子的產(chǎn)生和激子擴(kuò)散及輻射發(fā)光的過程,。

今天的文章重點(diǎn)細(xì)說一下載流子的注入和載流子的傳輸兩個(gè)動(dòng)作。

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相對(duì)于無機(jī)半導(dǎo)體器件,,由于有機(jī)半導(dǎo)體導(dǎo)電能力比較差,,兩類器件的電流傳輸特性相差比較大。

其傳輸電流流經(jīng) OLED 可分為兩個(gè)步驟:

一是電荷由電極注入有機(jī)層,,

二是注入的電荷在有機(jī)層內(nèi)傳遞,,

因此電流的大小金屬/有機(jī)材料接觸界面性質(zhì)有機(jī)材料本身的特性兩個(gè)因素決定。

當(dāng)金屬/有機(jī)材料接觸界面勢(shì)壘非常小時(shí),, 稱為歐姆接觸,,器件的電流由流經(jīng)有機(jī)材料的電流決定。

當(dāng)該勢(shì)壘比較大時(shí),,由兩者共同決定,該勢(shì)壘稱為肖特基接觸勢(shì)壘(Schottky)

01
載流子注入

有機(jī)半導(dǎo)體中的載流子注入是 OLED 器件工作物理過程中的第一步,,

是指電子和空穴通過電極/有機(jī)界面注入到有機(jī)半導(dǎo)體材料的分子軌道能級(jí)的過程。

通俗來說,,載流子注入,,即電子,、空穴從電極注入傳輸層。

一般陽極,、空穴傳輸層的HOMO能級(jí)不匹配,,陰極,、電子傳輸層的LUMO也能級(jí)不匹配,,存在著比較大的勢(shì)壘
為了實(shí)現(xiàn)更好的注入,,引入空穴注入層,、電子注入層來修飾陽極和陰極使它們的能級(jí)與功函數(shù)匹配,這樣,,電子,、空穴能有效平衡地注入。
理想條件下,,電子,、空穴能夠以1:1 的比例平衡注入,實(shí)現(xiàn)電子空穴的高效利用,。
研究載流子注入機(jī)理十分必要,,對(duì)優(yōu)化有機(jī) EL 器件結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)有重要作用,可以有效降低起亮電壓,、提高器發(fā)光效率,。
目前有關(guān)載流子注入機(jī)理并沒有成熟的理論,大致可以分為以下3種:歐姆注入,、熱電子發(fā)射注入,、隧穿注入

載流子的注入效率直接影響著OLEDs器件的啟亮電壓,、發(fā)光效率和壽命,。

由于正負(fù)電極的功函數(shù)與有機(jī)材料的分子軌道能級(jí)不匹配,存在能級(jí)差,,導(dǎo)致有機(jī)層和電極之間形成界面勢(shì)壘,, 如圖所示。

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因此,,電子和空穴的注入需要克服界面勢(shì)壘,,才能注入到 有機(jī)功能層。

有機(jī)功能層和電極間的勢(shì)壘是影響載流子注入,、器件亮度 和效率的重要因素,。

電子、空穴從高電導(dǎo)能力的電極材料向低導(dǎo)電性能的有機(jī)半導(dǎo)體材料渡越,,過程比較復(fù)雜,。

這與諸多因數(shù)有關(guān),,如電極材料性質(zhì)、有機(jī)材料本身性質(zhì),、電接觸界面,、表面態(tài)、器件結(jié)構(gòu)等,。


探究載流子注入方式可以通過測(cè)量器件的電流-電壓(I-V)特性來反映,。

當(dāng)金屬/半導(dǎo)體界面處注入勢(shì)壘很小時(shí),注入形式就是歐姆接觸,,I-V 呈現(xiàn)線性特征,;

當(dāng)存在較大界面接觸勢(shì)壘時(shí),I-V 特性呈現(xiàn)非線性特征,,稱為注入限制電流,,

關(guān)于載流子注入機(jī)制,目前主要有兩種理論

一種為隧穿注入,,

另一種為熱電子發(fā)射注入,。


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Ef一金屬的費(fèi)米能級(jí)
Evac——真空能級(jí) 
Φm——金屬的功函數(shù)
ea——有機(jī)半導(dǎo)體材料的電子親和勢(shì)
Ip——電離勢(shì)
ΦB——電子從金屬電極向有機(jī)半導(dǎo)體 材料注入的注入勢(shì)壘

熱電子注入

(Richardson-Schottky(RS )

RS熱電子注入模型中,電子通過吸收熱聲子獲得能量從而翻越注入界面的勢(shì)壘(如圖過程所示),,

RS熱電子發(fā)射模型中,,電流密度 Jrs是電場(chǎng)強(qiáng)度E和絕對(duì)溫度T的函數(shù),可以用下式表示:


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隧穿注入

(Fowler-Nordheim(FN)


在FN隧穿模型中,,電子在外場(chǎng)的作用下依照一定的幾率隧穿通過三角形注入勢(shì)壘(如圖過程2所示),。

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在FN隧穿模型中,

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一般認(rèn)為:

在電場(chǎng)強(qiáng)度較小而且注入勢(shì)壘高度較小的情況下,,載流子主要以RS熱電子發(fā)射模式越過勢(shì)壘;

而在電場(chǎng)強(qiáng)度較大或者勢(shì)壘高度較高的情況下,,載流子主要以FN隧穿的方式穿過勢(shì)壘

02
載流子傳輸

載流子傳輸,,即將注入至有機(jī)層的載流子運(yùn)輸至復(fù)合界面處,。

在電場(chǎng)力作用下,電子,、空穴分別在電子傳輸層,、空穴傳輸層上傳輸,向發(fā)光層靠近,。

電子,、空穴的遷移速度和傳輸層的遷移率相關(guān),

所以,,

采用高遷移率的有機(jī)材料作傳輸層,,可以有效地降低驅(qū)動(dòng)電壓,提高器件功率效率,。

傳輸層對(duì)優(yōu)化器件結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)十分重要,,處于電極,、發(fā)光層之間。

材料選擇時(shí),既要考慮載流子輸運(yùn)性能(材料的載流子遷移率要相對(duì)大一些),又要考慮能級(jí)匹配等因素,。

此外,傳輸材料應(yīng)當(dāng)具有良好的成膜性,、穩(wěn)定性

載流子在有機(jī)薄膜內(nèi)的遷移被認(rèn)為是跳躍運(yùn)動(dòng),,跳躍運(yùn)動(dòng)依靠電子云的重疊來完成,。


衡量有機(jī)薄膜載流子傳輸能力的一個(gè)主要指標(biāo)是載流子遷移率

目前所使用有機(jī)小分子空穴傳輸材料的遷移率一般在 10cm2/V.s左右,,

電子傳輸材料的遷移率相對(duì)低兩個(gè)數(shù)量級(jí).

因此,開發(fā)新型高遷移率的電子傳輸材料是平衡載流子 注入和提高載流子復(fù)合效率最有效的方法,。

固體有機(jī)材料的載流子遷移率較低,,大量注入時(shí),在有機(jī)半導(dǎo)體內(nèi)部容易形成空間積累電荷,,流經(jīng)的電流稱為體電流(bulk  current),。

目前,載流子傳輸機(jī)理還不是十分清楚,,其中如下理論模型最為常用,。


歐姆傳輸特性

極小電流時(shí),注入載流子少到可以忽略,。

此時(shí)導(dǎo)電主要來自于材料內(nèi)部自身的熱激發(fā)載流子的貢獻(xiàn),,I-V 曲線呈現(xiàn)歐姆定律形式:

J = qmnE=qmnV / d
其中,
J 是電流強(qiáng)度,,
E 為偏置場(chǎng)強(qiáng),,
μ 是載流子遷移率,
n 是載流子濃度,,
V 為器件兩端所加的電壓,,
d 為器件的厚度。

空間電荷限制電流模型(SCLC)

有機(jī)半導(dǎo)體遷移率低,,載流子容易在電極/有機(jī)層界面堆積,,從而形成空間電荷

空間電荷產(chǎn)生的內(nèi)電場(chǎng)與外加電場(chǎng)方向相反,,限制載流子進(jìn)一步注入,。

I-V 特性可以用空間電荷限制模型來描述:
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其中,
ε0 是真空介電常數(shù),,
εr 是有機(jī)材料介電常數(shù),。

陷阱填充的空間限制電流模型(TFLSCLC)

考慮到體材料的陷阱限制效應(yīng),,如果注入載流子被能級(jí)分裂的淺能級(jí)陷阱俘獲,則這部分載流子不能起到導(dǎo)電作用,。

此時(shí)器件的電流特性有如下形式:

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其中
 Θ 是一個(gè)與溫度有關(guān)的參數(shù),,一般小于1。

陷阱電荷限制電流模型(TCLC)

這種器件的 I-V 特性可以認(rèn)為是由于有機(jī)固體分子層中高濃度的陷阱分布所決定的,。

通常在低電流情況時(shí),,陷阱并未被填滿,電流呈現(xiàn)如下形式:

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m 為整數(shù),。

當(dāng)電壓進(jìn)一步增加,,達(dá)到一定的注入水平,陷阱被完全填滿,,此時(shí)陷阱不再影響電子的傳輸,,器件再次表現(xiàn)為理想的 SCLC 傳輸。

此時(shí) m=1,,此公式不再考慮有機(jī)層中陷阱限制效應(yīng),,式3轉(zhuǎn)變?yōu)槭?的形式。

研究載流子傳輸過程有許多重要意義:

-增強(qiáng)材料對(duì)電子,、空穴的傳輸效果,,降低器件工作電壓

-增加器件內(nèi)載流子密度,,能增加形成激子的概率,,提高器件的亮度;

-調(diào)整電子,、空穴傳輸?shù)钠胶?,避免或減少因器件中一種載流子數(shù)量過剩導(dǎo)致載流子通過器件內(nèi)部傳輸?shù)脚c注入電極相對(duì)的另一個(gè)電極而形成的漏電流,從而提高器件的效率,。


以上,,內(nèi)容僅為方便對(duì)實(shí)際應(yīng)用理論的淺層鋪墊。

如有解釋說明不合理之處,,歡迎專業(yè)人士批評(píng)指正,。

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