不久前有朋友問我,，采用弧轟擊和采用氬離子清洗有什么區(qū)別？我當(dāng)時只告訴他,，一個是金屬離子清洗,，一個是氣體離子清洗，能量不一樣,，原理也不一樣,，今天就簡單介紹一下多弧的知識。

多弧離子鍍是采用電弧放電的方法,，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬,，蒸發(fā)物是從陰極弧光放電放出的陰極物質(zhì)的離子，這種裝置不需要熔池,，被蒸發(fā)的靶材接陰極,，真空室為陽極，當(dāng)觸發(fā)電極與陰極靶突然瞬間接觸時,，就會引起電弧,，在陰極表面產(chǎn)生強(qiáng)烈發(fā)光的陰極弧光斑點，斑點直徑在100μm以下,，斑點內(nèi)的電流密度可達(dá)103~107A/cm2于是在這一區(qū)域內(nèi)的材料就瞬時蒸發(fā)并電離,。陰極弧光斑點在陰極表面上，以每秒幾十米的速度做無規(guī)則運動,，外加磁場用來控制輝點的運動軌跡和速度,，為了維持真空電弧，一般要求電壓為–20到–40 V,。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論,，該理論認(rèn)為，放電過程的電量遷移是借助于場電子發(fā)射和正離子電流這兩種機(jī)制同時存在且相互制約而實現(xiàn)的,。在放電過程中,，陰極材料大量蒸發(fā)，這些蒸汽分子產(chǎn)生的正離子，在陰極表面附近很短的距離內(nèi)產(chǎn)生極強(qiáng)的電場,，在這樣強(qiáng)的電場作用下,，電子以產(chǎn)生以場電子發(fā)射而溢出到真空中，而正離子可占總的電弧電流的10%左右,，被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層,，由此產(chǎn)生強(qiáng)電場，使陰極表面上功函數(shù)小的點(晶界或裂痕)開始發(fā)射電子,。個別發(fā)射電子密度高的點,，電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產(chǎn)生熱電子,，進(jìn)一步增加發(fā)射電子,。這個正反饋作用使電流局部集中。由于電流局部集中產(chǎn)生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發(fā)性地等離子化,，發(fā)射電子和離子,，并留下放電痕。同時也放出熔融的陰極材料粒子,。發(fā)射的離子中的一部分被吸回陰極表面,，形成空間電荷層，產(chǎn)生強(qiáng)電場,，又使新的功函數(shù)小的點開始發(fā)射電子,。

多弧離子鍍技術(shù)具有以下特點：

優(yōu)點：可以任意安裝使薄膜均勻。外加磁場可以改善電弧放電,；使電弧細(xì)碎,；旋轉(zhuǎn)速度加快,；細(xì)化膜層微粒,；對帶電粒子產(chǎn)生加速作用。金屬離化率高,，有利于薄膜的均勻性和提高附著力,，是實現(xiàn)離子鍍膜的最佳工藝。一弧多用,，既是蒸發(fā)源,，又是預(yù)轟擊凈化源和離化源。

缺點：在高的功率下,，容易產(chǎn)生金屬大顆粒,，從而影響鍍層質(zhì)量，部分靶材弧光放電不穩(wěn)定等,。