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學術(shù)簡報|多斷口真空開關(guān)電弧磁場調(diào)控需求與機理

 電氣技術(shù)雜志社 2020-11-18

摘要

鄭州大學電氣工程學院、河南省輸配電裝備與電氣絕緣工程技術(shù)研究中心,、大連理工大學電氣工程學院的研究人員葛國偉,、程顯等,在2018年第21期《電工技術(shù)學報》上撰文,,為尋求多斷口真空開關(guān)有效的磁場調(diào)控措施,,提出多斷口真空開關(guān)協(xié)同效應(yīng)的概念,分析了多斷口真空開關(guān)的磁場調(diào)控需求——動態(tài)電壓分布與動態(tài)介質(zhì)恢復強度協(xié)同作用,。

在此基礎(chǔ)上,,搭建了多斷口真空開關(guān)磁場調(diào)控試驗研究平臺,設(shè)計了試驗用脈沖磁場調(diào)控系統(tǒng),,研究了不同磁場方式,、脈沖寬度、磁場強度,、施加時刻等對真空電弧發(fā)展過程及弧后電流,、電荷等特性的影響規(guī)律。以動態(tài)電壓分布為調(diào)控目標,,研究了不同磁場組合方式下的動態(tài)電壓分布特性,,得到了磁場調(diào)控對電弧發(fā)展、弧后特性,、動態(tài)電壓分布的影響規(guī)律,。

實驗結(jié)果表明,磁場調(diào)控機理為磁場調(diào)控電弧發(fā)展影響零區(qū)及弧后特性,進而影響弧后動態(tài)電壓分布與動態(tài)絕緣特性,。該研究結(jié)果為串聯(lián)用真空滅弧室優(yōu)化設(shè)計及多斷口真空開關(guān)磁場調(diào)控提供了參考依據(jù),。

隨著真空開關(guān)技術(shù)的發(fā)展,真空開關(guān)成套設(shè)備如固體絕緣開關(guān)柜,、氣體絕緣開關(guān)柜在配電網(wǎng)已廣泛應(yīng)用,,由于真空長間隙的飽和效應(yīng)限制了其在高壓領(lǐng)域的發(fā)展,而環(huán)保要求日益迫切,,目前很多研究者在尋求替代高壓領(lǐng)域SF6斷路器的措施,。多斷口真空開關(guān)具有動態(tài)介質(zhì)恢復速度快、靜態(tài)擊穿增益,、操動功小,、環(huán)保等優(yōu)勢,是未來高壓開關(guān)的發(fā)展趨勢之一,。

目前國內(nèi)外研究者已在多斷口真空斷路器靜動態(tài)絕緣特性,、開斷增益特性、動態(tài)均壓及操動機構(gòu)方面開展了較多的工作并取得了一定的成果,。在此基礎(chǔ)上,,北京開關(guān)廠和西安交通大學等研制了基于72.5 kV真空滅弧室串聯(lián)構(gòu)成的126 kV雙斷口真空斷路器;大連理工大學研制了用于串聯(lián)的光控模塊式真空開關(guān)單元(FCVIM),,并基于40.5 kV真空開關(guān)單元串聯(lián)構(gòu)成126 kV智能多斷口真空斷路器,;日本AE帕瓦株式會社研制了168 kV/2 000 A/ 40 kA罐式氣體絕緣雙斷口真空開關(guān)。但針對多斷口真空開關(guān)磁場調(diào)控措施尚無深入,、細致的研究,。

目前常見的真空滅弧室的觸頭結(jié)構(gòu)包括縱向磁場(Axial Magnetic Field, AMF)觸頭和徑向磁場(Radial Magnetic Field, RMF)觸頭。電弧電流流過上述觸頭時,,在真空間隙中產(chǎn)生AMF和RMF,,用于調(diào)控電弧。在燃弧階段,,RMF驅(qū)使真空電弧在觸頭表面高速旋轉(zhuǎn),,避免觸頭表面局部融化。AMF能夠降低電弧電壓,,抑制高頻振蕩,,避免陽極斑點的出現(xiàn),防止集聚電弧的產(chǎn)生,。

P. G. Slade[11]分析了AMF和RMF對電弧不同發(fā)展階段的影響,。其中,AMF對擴散電弧的作用機理為:AMF可以束縛等離子體沿著磁場方向做螺旋上升運動,,進而減小了等離子體錐的重疊,。隨著AMF的增強等離子體錐直徑減小,重疊區(qū)域減小,電弧電壓隨著AMF的增加而減小,。進一步增加AMF,等離子體錐不再重疊,,分離成多個并聯(lián)的獨立等離子錐,,等離子體錐的直徑逐漸減小,等離子體錐內(nèi)的碰撞造成能量損耗,,進而造成電弧電壓的增加,。

在大電流真空電弧階段,AMF避免了真空電弧的集聚,,進而避免陽極斑點及液滴等,,并使得電弧轉(zhuǎn)變?yōu)閿U散電弧模式。A. M. Chaly和H. C. W. Gundlach等研究得到電弧電壓與AMF大小的關(guān)系,,隨著磁場的增加,,電弧電壓先減小后增大,并且存在電弧電壓最小值點對應(yīng)的磁場BA*,。AMF在燃弧階段,,驅(qū)使電弧等離子體沿著磁場方向螺旋上升運行,使得等離子體分布更加均勻,,減小了電弧過渡模式的時間,,進而進入擴散電弧模式,同時降低電弧電壓,。

M. B. Schulman等得到防止電弧集聚的臨界磁場Bcir,,Bcir>3.2(Ip-9)。在前人的基礎(chǔ)上,,劉志遠等[21]利用電弧圖像判斷陽極斑點,,得到避免陽極斑點出現(xiàn)的臨界磁場,所得到的臨界磁場加入了觸頭直徑參數(shù)的影響,。AMF比RMF觸頭真空滅弧室有更大的開斷能力,,RMF滅弧室的弧后電流較大且分散性大。

以上研究主要以單斷口真空斷路器為對象,,相關(guān)研究結(jié)果為多斷口真空斷路器的應(yīng)用奠定了一定的基礎(chǔ),。然而,由于多斷口真空斷路器是多個真空間隙串聯(lián)而成,,其布置方式,、觸頭結(jié)構(gòu)和磁場等條件對各個斷口電弧形態(tài)演變規(guī)律、弧后動態(tài)電壓分布與介質(zhì)恢復過程也將產(chǎn)生較大的影響,。

目前針對多斷口真空開關(guān)磁場調(diào)控的需求與機理研究較少,,本文首先提出了多斷口真空開關(guān)協(xié)同效應(yīng)概念,基于協(xié)同效應(yīng),分析了多斷口真空開關(guān)磁場調(diào)控目標與單斷口真空滅弧室的區(qū)別,。然后搭建了磁場調(diào)控試驗研究平臺,,研究了不同脈寬、不同時刻AMF和橫向磁場(Transverse Magnetic Field, TMF)對電弧發(fā)展及弧后特性的影響規(guī)律,,并研究不同組合磁場對動態(tài)電壓分布的影響,,得到了多斷口真空開關(guān)磁場調(diào)控的需求與機理,為多斷口真空開關(guān)磁場調(diào)控措施優(yōu)化設(shè)計奠定了基礎(chǔ),。

圖1  多斷口真空開關(guān)協(xié)同效應(yīng)概念

圖2  雙斷口真空開關(guān)試驗電路

圖3  磁場調(diào)控研究試驗樣機

結(jié)論

多斷口真空開關(guān)磁場調(diào)控的機理為AMF磁場調(diào)控電弧影響了零區(qū)特性,,零區(qū)特性影響弧后電荷等弧后特性,而不平衡弧后電荷影響動態(tài)電壓分布,。多斷口真空開關(guān)的磁場調(diào)控的目標是通過對燃弧階段串聯(lián)電弧的調(diào)控,,實現(xiàn)各個斷口動態(tài)電壓分布與動態(tài)介質(zhì)恢復強度的協(xié)同,進而得到最大的開斷能力,。

研究了同相位AMF磁場,、脈沖AMF磁場調(diào)控時刻對電弧發(fā)展演變過程及弧后特性的影響,在弧柱模式能夠加速電弧向擴散電弧轉(zhuǎn)變,,進而降低弧后電流與電荷,;在零區(qū)擴散電弧時,AMF磁場束縛了電弧等離子體的擴散,,增加了弧后電流與電荷,。

磁場調(diào)控可以改善多斷口真空開關(guān)動態(tài)電壓分布,同相位AMF磁場可以獲得較好的動態(tài)電壓分布,,但磁場調(diào)控對動態(tài)介質(zhì)恢復特性的影響,、動態(tài)電壓分布與動態(tài)介質(zhì)恢復強度的協(xié)同調(diào)控有待進一步的研究。

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